目前，影響金剛石薄膜大規(guī)模應(yīng)用的主要問題之一，是化學(xué)氣一相沉積的金剛石膜一般是多晶結(jié)構(gòu)，晶粒尺寸一般在l5m到幾十 5m之間，由于表面積大，產(chǎn)生較高的表面粗糙度，嚴(yán)重影響金剛石膜在光學(xué)和電子學(xué)方面的應(yīng)用。為了克服這個(gè)缺點(diǎn)，必須減小金剛石膜晶粒尺寸，雖然機(jī)械拋光可以減小表面粗糙度，但金剛石膜
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- 錄入時(shí)間: 2012/8/25